에스티아이가 글로벌 반도체 업체로부터 극자외선(EUV) 포드 클리너 장비를 수주했다고 2일 밝혔다.

이번에 수주한 EUV 포드 클리너 장비는 EUV 노광 장비의 레티클을 보관하는 전용 포드를 세정하는 장비다. 에스티아이가 순수 자체 기술 개발을 통해 품질과 생산성을 크게 향상시키며 국산화에 성공했다.

EUV 공정은 기존의 심자외선(DUV) 공정보다 짧은 파장의 빛을 사용해 웨이퍼에 미세하고 정밀한 회로를 형성할 수 있는 기술이다. 이 기술은 고성능 모바일 기기, 데이터센터, 인공지능(AI) 등 첨단 산업에 필수적인 고효율·고집적 반도체 구현에 핵심적 역할을 한다.

에스티아이는 EUV 포드에 최적화된 세정 장비를 구현하기 위해 자체 특허 기술을 적용했으며, 이를 통해 경쟁력 있는 양산성을 확보하는 것을 목표로 하고 있다.

반도체 파운드리와 메모리 공정에서 EUV 노광 장비의 수요가 증가함에 따라, EUV 레티클 전용 포드 클리너 장비의 중요성도 커지고 있다.

에스티아이는 이번 수주를 계기로 국내외 글로벌 반도체 업체들로 고객 기반을 확대할 것으로 기대하고 있다. 특히 에스티아이는 북미 레티클 포드 클리너 시장에서 높은 시장점유율을 기록하고 있어, 국산화 장비도 향후 높은 수요가 예상된다.

시장조사기관 비즈니스리서치인사이트에 따르면, 레티클 포드 클리너 시장 규모는 2028년까지 6100만달러(약 895억원) 규모로 성장할 것으로 전망된다.

에스티아이 관계자는 “인공지능 서버 및 모바일 메모리 수요 증가로 반도체 업황이 개선될 것으로 예상되며, 이에 따라 수주 실적 개선도 가시화될 전망”이라며 “고대역폭메모리(HBM)용 플럭스 리플로어와 플럭스리스 리플로어 장비의 수주가 순조롭게 진행 중이며, 차세대 리플로우 장비를 통해 국내외 다양한 고객사와의 협력을 확대하고 있다”고 말했다.